真空燒結爐的用途及分類 　　真空燒結爐主要用于粉末冶金制品、金屬注射成型制品、不銹鋼基、硬質合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、釹鐵硼等的燒結。 　　真空爐的分類主要有兩種： 　　一種是以溫度分為普通燒結爐(1300℃及以下)，中溫燒結爐(1300℃~1600℃)、高溫燒結爐(1600℃~2400℃)。 　　另一種是以真空度的高低來劃分，可分為低真空、高真空和超高真空燒結爐。 　　用途及特點： 　　真空燒結爐主要應用于特種陶瓷(碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅結合碳化硅等)、高熔點金屬、硬質合金以及其它粉體材料的高溫燒結，更適用于碳化硅(SiSIC)制品的重結晶燒成工藝，也可用于對一些高熔點金屬進行退火及光亮、除氣處理等。 　　真空甩帶爐采用中頻電源加熱原理，有效避免了電阻內熱真空爐的高溫絕緣問題，因此在2000℃~2400℃的溫度段相比電阻爐的有較大的優勢。

　　熔鹽電解爐，是一種利用電化學原理，采用熔鹽電解法生產高純金屬的裝置。把金屬氯化物作為原料裝入本熔鹽電解爐中，即可生產出對應金屬氯化物的高純金屬。有氯化物熔鹽電解和氟化物熔鹽電解兩種方法。以堿金屬和堿土金屬氯化物為電解質，以稀土氯化物為電解原料的熔鹽電解方法，從陰極析出液態稀土金屬，陽極析出氯氣。這種方法具有設備簡單、操作方便、電解槽結構材料易于解決等特點，但也存在氯化稀土吸水性強、電流效率低等問題。 　　使用熔鹽電解爐電解結果是在陰極得到熔融稀土金屬，在陽極析出氯氣，同時消耗熔鹽電解質中的氯化稀土和直流電量。陰極析出的少部分稀土金屬溶解于熔鹽電解質中，發生生成低價氯化物的二次反應，使電流效率降低。通常熔鹽電解質組成、電解溫度、電流密度、極間距等電解工藝條件對電解電流效率有顯著影響。 　　對于電解工藝來說，當熔鹽電解爐中氯化稀土含量過高，熔鹽電解質電阻大、粘度也大，陽極氣體逸出困難。反之，若是稀土含量過低，會發生堿金屬和稀土離子共同放電，這兩種情況均使電流效率降低，電量消耗量增加。又因電解溫度與熔鹽電解質組成和金屬熔點有關，一般采用高于稀土金屬熔點50K左右的電解溫度。當電解溫度過高，金屬與熔鹽電解質的二次反應加劇，金屬溶解損失增加;若電解溫度過低，則熔鹽電解質粘度大，電流效率下降。 　　根據了解，目前工業應用的熔鹽電解爐所用的電解槽主要有小型石墨圓形槽和大型陶瓷槽兩種類型。前者的結構相較簡單，使用方便，電流效率可達40%～50%，金屬直接回收率在85%以上，但燒蝕嚴重，槽電壓高，電能消耗大，生產能力小。后者生產能力大，電能消耗低，但由于電流分布不勻，金屬溶解和二次反應嚴重，電流效率低，所以金屬直接回收率為80%～85%。在使用中，當陰極產物積累到一定量時，八佳科技建議應定期取出鑄錠，冷卻后用冷水清洗、涼干、裝桶、蠟封保存。